Investigations of the optical and thermal parameters of porous silicon layers with the two wavelength photoacoustic method / M. Maliński, L. Bychto, A. Patryn, J. Gibkes, B.K. Bein, J. Pelzl.
Rodzaj materiału:
ArtykułJęzyk: angielski Praca zawiera: - Winter School on Wave and Quantum Acoustics (34 ; 2000 ; Ustroń, Poland)
| Okładka | Typ dokumentu | Obecna biblioteka | Biblioteka macierzysta | Kolekcja | Lokalizacja | Sygnatura | Materiały określone | Nr tomu/części | URL | Numer kopii | Status | Uwagi | Termin zwrotu | Kod kreskowy | Zamówienia | Kolejka rezerwacji egzemplarzy | Kursy | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Rozdział
|
Bibliografia Prac Pracowników - BPK | 95812 (Przeglądaj półkę(Otwórz poniżej)) | Nie można wypożyczyć |
Dane z autopsji.
This paper presents results of photoacoustic studies of porous silicon layers formed on silicon substrates with the method of constant current anodisation of c-Si in an aqueous solution of HF. The aim of the study was to determine the thermal diffusivity of the porous silicon layers and their optical absorption coefficients with the photoacoustic method using two wavelengths of the exciting light for the generation of thermal waves and measurement of thermal and optical parameters.