Niskotemperaturowe metody PVD nakładania cienkich warstw węglowych /
PRECHT, Witold. Politechnika Koszalińska - Wydział Mechaniczny, Katedra Inżynierii Materiałowej 1996 - 2003.
Niskotemperaturowe metody PVD nakładania cienkich warstw węglowych / W. Precht, A. Czyżniewski, W. Walkowiak, M. Pancielejko, P. Myśliński.
Low-temperature PVD methods od carbon film deposition
Dane z autopsji.
W pracy przedstawiono urządzenie do wytwarzania cienkich warstw, w szczególności warstw węglowych i warstw związków węgla w niskotemperaturowych procesach PVD. W urządzeniu można wytwarzać warstwy metodami rozpylania magnetronowego (RMS) oraz katodowego odparowania łukowego (CAPD) oraz jego odmianą z zastosowaniem filtra magnetycznego (FCAPD), eliminującego efekt mikrokropel. Przedstawiono również wyniki badań eksploatacyjnych pokrytych łożysk tocznych.
Inżynieria powierzchni
Materiały konferencyjne.
621.791/.795 533
Niskotemperaturowe metody PVD nakładania cienkich warstw węglowych / W. Precht, A. Czyżniewski, W. Walkowiak, M. Pancielejko, P. Myśliński.
Low-temperature PVD methods od carbon film deposition
Dane z autopsji.
W pracy przedstawiono urządzenie do wytwarzania cienkich warstw, w szczególności warstw węglowych i warstw związków węgla w niskotemperaturowych procesach PVD. W urządzeniu można wytwarzać warstwy metodami rozpylania magnetronowego (RMS) oraz katodowego odparowania łukowego (CAPD) oraz jego odmianą z zastosowaniem filtra magnetycznego (FCAPD), eliminującego efekt mikrokropel. Przedstawiono również wyniki badań eksploatacyjnych pokrytych łożysk tocznych.
Inżynieria powierzchni
Materiały konferencyjne.
621.791/.795 533