| 000 | 01384nab a2200253 i 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | BPP | ||
| 003 | BPK | ||
| 005 | 20190610114326.0 | ||
| 008 | 140513s2012 pl f |000 0 pol | ||
| 040 | _cBPK | ||
| 041 |
_apol _beng |
||
| 044 | _aPOL | ||
| 080 | _a620.197 | ||
| 100 |
_aWARCHOLIŃSKI, Bogdan. _d1996 - . _bPolitechnika Koszalińska - Instytut Mechatroniki, Nanotechnologii i Techniki Próżniowej, _cZakład Nanotechnologii Próżniowo-Plazmowej |
||
| 245 |
_aWpływ napięcia polaryzacji podłoża na właściwości powłok CrN i CrCN otrzymywanych metodą katodowego odparowania łukowego = _bEffect of substrate bias voltage on the properties of CrN and CrCN coating obtained by cathodic are evaporation / _cBogdan Warcholiński, Adam Gilewicz. |
||
| 260 | _c2012. | ||
| 500 | _aDane z autopsji. | ||
| 520 | _aW artykule opisano wpływ jednego z parametrów technologicznych, napięcia polaryzacji podłoża, na niektóre właściwości mechaniczne oraz stan powierzchni otrzymywanych powłok. | ||
| 650 | 0 | _aChropowatość | |
| 650 | 0 | _aInżynieria powierzchni | |
| 700 |
_aGILEWICZ, Adam. _d1996 - . _bPolitechnika Koszalińska - Instytut Mechatroniki, Nanotechnologii i Techniki Próżniowej, _cZakład Nanotechnologii Próżniowo-Plazmowej |
||
| 773 |
_iW : _tInżynieria Materiałowa. - _g2012, R. 33, nr 5 (189), s. 460-463 |
||
| 942 |
_cART _2UKD |
||
| 999 |
_c6469 _d6469 |
||