Widok standardowy Widok MARC Widok ISBD

Nadprzewodzące warstwy TiN wytworzone metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego / J. Staśkiewicz, A. Czyżniewski, W. Gulbiński, Cz. Szypowski.

Autor:

STAŚKIEWICZ, Jan. Wyższa Szkoła Inżynierska w Koszalinie - Wydział Mechaniczny, Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej, 1973 - 1996

Współtwórca(-y):

CZYŻNIEWSKI, Andrzej. Wyższa Szkoła Inżynierska w Koszalinie - Wydział Mechaniczny, Katedra Inżynierii Materiałowej, 1975 - 1996
GULBIŃSKI, Witold. Wyższa Szkoła Inżynierska w Koszalinie - Wydział Mechaniczny, Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej, 1975 - 1996
SZYPOWSKI, Czesław. Wyższa Szkoła Inżynierska w Koszalinie - Wydział Mechaniczny, Środowiskowe Laboratorium Techniki Próżniowej, 1974 - 1993

Rodzaj materiału:

ArtykułJęzyk: angielski Język streszczenia: polski Inny tytuł:

Superconducting TiN thin films prepared by D.C. reactive magnetron sputtering

Praca zawiera:

Szkoła Mielno'92 (3 ; 1992 ; Mielno, Polska). Szkoła Mielno'92

Tematy:

Rodzaj/forma:

Materiały konferencyjne.

W: Nowoczesne technologie próżniowe : 3 Szkoła Mielno'92, 26-28 listopada 1992 r. / red. nauk. Witold Precht. - s. 121-137Streszczenie: W pracy przedstawiono wyniki pomiarów temperatury przejścia w stan nadprzewodzący (temperatury krytycznej Tc) cienkich warstw azotku tytanu - TiN - otrzymanych metodą stałoprądowego reaktywnego rozpylania magnetronowego. Szczegółowo opisano system i procesy technologiczne. Określono także wpływ stechiometrii warstw na inne niż Tc parametry fizyczne warstw takie jak: mikrotwardość, odporność właściwa i współczynnik odbicia.

Egzemplarze ( 1 )
Uwagi ( 2 )

Egzemplarze
Typ dokumentu	Obecna biblioteka	Sygnatura	Status	Termin zwrotu	Kod kreskowy
Artykuł	Bibliografia Prac Pracowników - BPK	36349 (Przeglądaj półkę(Otwórz poniżej))	Nie można wypożyczyć

Dane z autopsji.

W pracy przedstawiono wyniki pomiarów temperatury przejścia w stan nadprzewodzący (temperatury krytycznej Tc) cienkich warstw azotku tytanu - TiN - otrzymanych metodą stałoprądowego reaktywnego rozpylania magnetronowego. Szczegółowo opisano system i procesy technologiczne. Określono także wpływ stechiometrii warstw na inne niż Tc parametry fizyczne warstw takie jak: mikrotwardość, odporność właściwa i współczynnik odbicia.