Niskotemperaturowe metody PVD nakładania cienkich warstw węglowych / W. Precht, A. Czyżniewski, W. Walkowiak, M. Pancielejko, P. Myśliński.
Rodzaj materiału:
ArtykułJęzyk: polski Język streszczenia: angielski Inny tytuł: - Low-temperature PVD methods od carbon film deposition
- Szkoła Letnia Mielno'96 (7 ; 1996 ; Mielno, Polska)
| Typ dokumentu | Obecna biblioteka | Sygnatura | Status | Termin zwrotu | Kod kreskowy | |
|---|---|---|---|---|---|---|
Artykuł
|
Bibliografia Prac Pracowników - BPK | 41311 (Przeglądaj półkę(Otwórz poniżej)) | Nie można wypożyczyć |
Zakończ przeglądanie półki (Zakończ przeglądanie półki)
Dane z autopsji.
W pracy przedstawiono urządzenie do wytwarzania cienkich warstw, w szczególności warstw węglowych i warstw związków węgla w niskotemperaturowych procesach PVD. W urządzeniu można wytwarzać warstwy metodami rozpylania magnetronowego (RMS) oraz katodowego odparowania łukowego (CAPD) oraz jego odmianą z zastosowaniem filtra magnetycznego (FCAPD), eliminującego efekt mikrokropel. Przedstawiono również wyniki badań eksploatacyjnych pokrytych łożysk tocznych.